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TSMC将7月公布28nm工艺第十版设计

2019-04-10 17:38:51 | 来源: 体育

TSMC设计与技术平台副总监Fu-Chieh Hsu

TSMC(台积电)40nm工艺存在良品率问题是众所周知的了,不过日前据Digitimes报道,TSMC将会在今年7月份的设计自动化大会(DAC)上为28nm工艺制程宣布10VZA去黑头面膜
.0版本的Reference Flow。

早在去年9月份TSMC就已公布了28nm工艺制程,采用high-k金属栅极(HKMG)、氧氮化硅(SiON)材料等等亚硝酸钙
,预计可在2010年季度投入量产。

另外据预测,40nm工艺将会占据TSMC本年度全年总收入的8~10%35CrMo无缝管
,而明年第二季度则有望提升至15~20%。TSMC 40nm工艺的主要客户为芯片制造商、GPU开发商以及FPGA供应商等。

TSMC的设计与技术平台副总监Fu-Chieh Hsu将会7月26~31日于旧金山举行的DAC上公布更多关于28nm工艺制程的信息。

消息来源:[Digitimes]

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